太阳能电池片(主要指晶硅电池片,包括单晶硅和多晶硅)的膜厚检测是光伏制造过程中关键的质量控制环节。薄膜厚度直接影响光学性能(如减反射)、电学性能(如钝化效果、载流子寿命)和工艺稳定性。以下是针对不同功能薄膜的检测方法、标准及技术要点。
1. 椭偏仪(Spectroscopic Ellipsometry, SE)
原理:测量偏振光经薄膜反射后的振幅比(Ψ)和相位差(Δ),通过模型拟合计算厚度与折射率;
优点:
非接触、无损;
精度高(±0.5 nm 甚至更高);
可同时测厚度 + 折射率 + 消光系数;
适用:SiNₓ、Al₂O₃、SiO₂、Poly-Si、TCO 等所有透明/半透明薄膜;
局限:需建立光学模型;对粗糙表面或非均匀膜误差增大;
设备:J.A. Woollam、Sentech、HORIBA 等。
行业金标准:用于研发和高端产线在线/离线监控。
2. 分光光度计法(Reflectance / Transmittance Spectroscopy)
原理:测量薄膜在 300–1100 nm 波段的反射率(R)或透射率(T)光谱,利用干涉条纹周期计算厚度:
其中 λ1,λ2 为相邻反射峰波长,n 为折射率。
优点:
设备成本低(相比椭偏仪);
测量速度快(<1 秒);
适合产线快速筛查;
适用:SiNₓ(常用)、TCO 等有明显干涉条纹的薄膜;
局限:
需已知折射率(或通过颜色经验估算);
对超薄膜(<30 nm)或无干涉条纹的膜(如 Al₂O₃)不适用;
典型设备:Ocean Insight 光谱仪 + 积分球。
产线常用:通过颜色(如深蓝、浅蓝)间接判断膜厚是否在窗口内。
3. 扫描电子显微镜(SEM)——破坏性但直观
方法:将电池片沿垂直方向切割、抛光、镀导电层,用 SEM 观察截面;
优点:直接成像,可测多层膜结构;
缺点:
破坏样品;
制样复杂、耗时;
不适合在线检测;
用途:工艺开发、失效分析、设备校准。
4. X射线反射率(XRR, X-Ray Reflectivity)
原理:利用 X 射线在薄膜界面的干涉效应,通过 Kiessig 条纹计算厚度;
优点:对超薄膜(1–10 nm)精度极高(±0.1 nm);
适用:Al₂O₃、SiO₂ 隧穿层等;
局限:设备昂贵,测量速度慢,需平整表面。
来源:网络
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